事業分野 Business Field

Overlay Metrology

Market Trend

グローバルオーバーレイ計測装置市場
オーバーレイ計測装置市場 成長の理由

半導体工程技術の発達につれて、Overlay Error計測のためのOverlay制御が重要性を増しており、Overlay測定Point数の増加にともなうOverlay装置の需要増加が予想されます。

Technical

半導体を製造するためには、蒸着(deposition)、露光(Lithography)、食刻(Etch)の工程を繰り返しながら、ウェーハに順番にパターンを形成するプロセスを連続して行います。このように数多くの層(Layer)を重ねるとき、それぞれのパターンを必要な位置に正確に積み重ねてはじめて、不良品が発生せず、半導体が正常に動作します。

露光機を利用してWafer上にPatternを形成する露光(Photo Lithography)工程におけるOverlay測定とは、光学装置を利用して前工程のPatternと現在の工程で形成されたPatternが正確に並べられ、設計通りに連結されるのかの測定を意味します。

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